​7纳米光刻机（7纳米光刻机是什么概念）

7纳米光刻机（7纳米光刻机是什么概念）

大家好，近期很多朋友对于

7纳米光刻机

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目前7纳米芯片是最先进的工艺，产能有限，只有少数厂商拿得到货使用在旗舰机型上，主要还是由于工艺复杂，产能不足造成的，生产7纳米芯片主要的机器是ASML光刻机，那就来了解一下它的生产原理和产能。

全球生产光刻机的设备少之又少，占主流还是荷兰的ASML公司，光刻机的制造非常的复杂，需要大量的研发人员，一台机器的造价就达到了上亿美元，而且需要提前预订，主要是供给了三星和台积电这两家芯片制造企业。

光刻机在加工芯片的过程中，通过光源，形状控制的方法，将光束射过线路图，处理好光学误差，再将线路图的比例缩小，用化学的方法将电路图刻在硅片上。在晶圆上开出各种微小的空间注入离子，生成PN节，构建千千万万的元器件，这些工艺流程完成后，在一个晶圆上才能形成芯片的原型，还要经过切割、封装、套入管脚，测试等这些流程，才能完成最终的芯片。

因为7nm的芯片的体积更小，要将千千万万的晶体管刻在这么小的晶元上，难度要比其它的芯片大得多， 如果在常规的设置状态下，EUV光刻机的工作效率会达到70WPH，但在生产中，实际效率只有50%，7nm芯片工艺难度增加，良率不高，算一下大约每天只能加工640片晶圆，月产能也就1.6万片左右。

7纳米芯片已经量产了有一段时间，由于工艺的特殊性，芯片制造商产能超负荷运转也无法满足市场需求， 导致很多厂商的产品跳票，影响销售。它们也在积极的改进生产工艺流程，提升产能。